リソグラフィは半導体デバイスのデザインルールを微細化するためのコア技術です。より微細なパターンを形成するためには、短波長に対応するフォトレジスト、開口率を向上するための液浸技術などが導入されています。またフォトレジストや露光装置内のレンズ、フォトマスクなどを雰囲気中の分子状汚染物質から保護することにより、パターン欠陥の低減や光学系のライフタイム向上が求められています。
インテグリスはこれらのプロセス課題を解消するために、お客様と緊密なパートナーシップを構築し、激しい技術革新にタイムリーに対応する、イノベーティブな製品を市場に投入し続けています。
フォトケミカルのろ過・ディスペンス
| インテグリスのインテリジェンMiniは、多様化するプロセスニーズに適応した省スペースデザインのディスペンスシステムです。独自の2-ステージ・ディスペンス・テクノロジー（TST）は、フィルトレーションとディスペンスを独立して制御するため、信頼性が高く、高精度なディスペンス性能を安定して長期間維持します。長年の実績を誇る超高分子量ポリエチレンメンブレンをはじめとして、Non-Sievingテクノロジーを付加したメンブレン、最先端のデザインルールに対応する10nm超精密ろ過、ホールドアップボリュームを極限まで抑えたフィルターなど、多様なニーズにお応えします。 |  |
レチクルの保護・搬送
| インテグリスのRSP-200は、SMIF（Standard Mechanical Interface）に対応した200mmのレチクルポッドです。レチクルを分子状汚染物質から保護し、UVライトの透過を最小限に抑えることにより、レチクルを確実に保護・搬送します。 |  |
分子状汚染物質の制御
| インテグリスのExtractionケミカルフィルターは、リソグラフィ装置内を分子状汚染物質（AMCs: Airborne Molecular Contaminations）から保護することにより、フォトレジストの汚染によるパターン欠陥の低減や光学系の曇りによるライフタイム低下の改善に寄与します。また、AMCに特化した分析技術と長年に渡る経験を活かし、ケミカルフィルターの寿命予測やクリーンルーム内の汚染計測に関わるサービス製品を提供します。 |  |