リソグラフィは半導体デバイスのデザインルールを微細化するためのコア技術です。より微細なパターンを形成するためには、短波長に対応するフォトレジスト、開口率を向上するための液浸技術などが導入されています。またフォトレジストや露光装置内のレンズ、フォトマスクなどを雰囲気中の分子状汚染物質から保護することにより、パターン欠陥の低減や光学系のライフタイム向上が求められています。
インテグリスはこれらのプロセス課題を解消するために、お客様と緊密なパートナーシップを構築し、激しい技術革新にタイムリーに対応する、イノベーティブな製品を市場に投入し続けています。
フォトケミカルのろ過・ディスペンス
分子状汚染物質の制御
レチクルの保護
超高分子量ポリエチレン（UPE）は、フォトレジスト溶剤に対して優れた濡れ性を有しています。
疎水性のUPEメンブレンは、化学的、物理的に安定しており、幅広いアプリケーションに使用できます。
現像液用に最適化された超高分子量ポリエチレン（UPE）メンブレンを使用しています。
親水化処理が不要で、現像液以外の弱アルカリ、中性薬品、純水にも使用できます。
超純水用に最適化された超高分子量ポリエチレン（UPE）メンブレンを使用しています。
親水化処理が不要で、純水以外の中性薬品、弱酸性薬品にも使用できます。
超高分子量ポリエチレン（UPE）メンブレンに、レジスト中のゲル状不純物を吸着する作用を付加しました。
マイクロバブルの発生を抑える親水性のメンブレンは、TARCにも適しています。
耐薬品性に優れたオールフッ素樹脂製フィルター。
SOD、HMDS等のろ過にお薦めします。
PTFEメンブレンを使用したインライン型ガスフィルター。
薬液の加圧（圧送）ガス、駆動ガスのろ過に適しています。
コータ・デベロッパの装置内環境を塩基性不純物から保護
露光装置内環境を塩基性不純物、酸性不純物、揮発性有機化合物から保護
光学系のガスパージ用に開発されたガスピューリファイヤー
フォトレジスト、ポリイミドなどの高精度ディスペンス
液浸露光用に開発された超純水精製システム
複数の精製ユニットを内蔵し、自動的に再生するガス精製システム