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「第12回SOPTシンポジウム」のご案内

(Published: Monday, October 01, 2007)

 

ピューリフィケーション研究会(通称SOPT)は、半導体および応用デバイスの量産化技術に求められるクリーン化技術、即ちピューリフィケーション(清浄化)技術について、情報提供、技術討論、技術交流の場を産学が連携して提供しています。

詳しくはこちら... http://www.puriken.org/about.htm


この度、「第12回SOPTシンポジウム」が開催されることになりましたので、ご案内申し上げます。
日本インテグリスは、ピューリフィケーション研究会の活動を支援しています。

 

===== 第12回SOPTシンポジウム 開催概要 ========

開催日時:2007年11月22日(木)、10:00-17:00(9:30開場)
開催場所:A.R.Kビル(博多駅筑紫口より徒歩約5分)
定員:60名
参加費:会員10,000円(非会員13,000円)
詳細:http://www.puriken.org/symp-12.htm

===== 第12回SOPTシンポジウム プログラム(敬称略)===

時間講演タイトル 講師
10:00-10:10開会の挨拶SOPT委員長 
 九州大学大学院システム情報科学研究院浅野種正
10:10-11:30「これなら分かる半導体フロント・エンド・プロセス」
  半導体産業新聞松下晋司
11:30-12:00「先端フォトマスクの現状と今後の課題」
 HOYA(株)マスク事業部木下 博
13:00-14:00「リソグラフィ技術の現状と今後の展望」
 (株)ニコン 精機カンパニー龜山雅臣
14:00-15:00「最先端レジストの開発状況」
 富士フイルム(株)エレクトロニクスマテリアルズ研究所百田 淳
15:15-16:15「リソグラフィプロセスにおけるケミカルフィルタの応用
 日本インテグリス(株)大屋敷 靖
16:20-16:50Q&A(講師全員)
16:50-17:00閉会の辞SOPT事務局長 
  日本インテグリス(株)二ノ宮敏裕
 総合司会SOPT副委員長 
 三菱電機(株)パワーデバイス製作所園田信夫