超高分子量ポリエチレン（UPE）は、フォトレジスト溶剤に対して優れた濡れ性を有しています。
疎水性のUPEメンブレンは、化学的、物理的に安定しており、幅広いアプリケーションに使用できます。
現像液用に最適化された超高分子量ポリエチレン（UPE）メンブレンを使用しています。
親水化処理が不要で、現像液以外の弱アルカリ、中性薬品、純水にも使用できます。
超純水用に最適化された超高分子量ポリエチレン（UPE）メンブレンを使用しています。
親水化処理が不要で、純水以外の中性薬品、弱酸性薬品にも使用できます。
超高分子量ポリエチレン（UPE）メンブレンに、レジスト中のゲル状不純物を吸着する作用を付加しました。
マイクロバブルの発生を抑える親水性のメンブレンは、TARCにも適しています。
DHF/BOEの循環・供給ライン用にデザインされたフィルター。
親水性の超高分子量ポリエチレン（UPE）メンブレンは、親水化処理が不要で、マイクロバブルの発生を抑制します。