Close
液体のろ過・精製
ガスのろ過・精製
液体の移送・制御
ウェーハ/レチクル容器
半導体後工程容器
ハードディスク容器
特殊材料
CMP消耗品
半導体
フラットパネルディスプレイ
ハードディスクドライブ
エネルギー分野
高輝度LED
ホーム
>
製品情報
>
ガスのろ過・精製
>
ガス精製システム
>
エアロネクス ガス精製システム
> EGPS-Hシリーズ
製品情報
液体のろ過・精製
PTFE/PFAフィルター
UPEフィルター
PPフィルター
PSF/PESフィルター
ピューリファイヤー
ハウジング/マニホールド
大流量フィルター
研究開発用フィルター
アプリケーション別
ガス溶解/熱交換デバイス
ガスのろ過・精製
ガスフィルター
ガスピューリファイヤー
ケミカルエアフィルター
ディフューザー
ガス精製システム
液体の移送・制御
バルブ
継手
薬品コンテナ
センシング&制御
ディスペンスシステム
超純水システム
ベローズポンプ
スプレー製品
ウェーハ/レチクル容器
300mmウェーハ容器
200mmウェーハ容器
150mm以下のウェーハ容器
角型ウェーハ容器
レチクル/マスク容器
ラボ用製品
半導体後工程容器
ホリゾンタルシッパー
フィルムフレームシッパー
ハードディスク容器
ディスク出荷容器
ディスクプロセスキャリア
保管用ボックス
ディスクパッケージ
特殊材料
POCO SiC
POCO グラファイト
CMP消耗品
PVAブラシ
製品情報の絞込みは、以下のフィールドから1つ以上の項目を選択し、検索ボタンをクリックしてください。
産業別絞込み
製品の用途または区分
製品名またはキーワード入力
または
または
このページを電子メールで知らせる。
このページを印刷
このページを送信
このページを電子メールで誰かに知らせるには、以下のフォームに必要事項を入力して、最後に「送信」をクリックします。
ご指定のアドレスに電子メールが送信されました。
他の相手先にも送信する。
閉じる
エアロネクス ガス精製システム EGPS-Hシリーズ
水素用自動精製システム、120/300/1000SLM
イメージの拡大
エピタキシャルやMOCVDの膜特性向上に有効なシステム。
水素ガス中の水分、酸素、CO等の不純物を1ppb以下に制御。
2本の精製ユニットを搭載しており、再生・供給サイクルを自動制御。
精製ユニットを交換することなく、長期の連続運転を実現。
最高使用流量は120SLM、300SLM、1000SLMの3種類をご用意。
エアロネクス ガス精製システム EGPS-Hシリーズ
使用ガス
水素
除去対象不純物
H2O、O2、CO2、CO、NMHC(ノンメタンハイドロカーボン)
不純物清浄度
1 ppb 以下
粒子除去効率
0.003μm以上の粒子を99.9999999%除去
使用圧力範囲
0.4-1.0 MPa
最高使用流量
120SLM、300SLMまたは1000SLM
How to read a part number
How to order from Entegris