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ファインプロセス用フィルター

パネルガード1-2-3 ディスポーザブルフィルター
疎水性UPEメンブレン、孔径0.05-0.2µm、マニホールドタイプ
  • 専用のマニホールドを使用することにより、簡単な操作でフィルターを交換できます。
  • 液晶ディスプレイのフォトレジスト用に開発されたデザイン。
  • 基板サイズに合わせてショートタイプとロングタイプをご用意。
  • 超高分子量ポリエチレン(UPE)メンブレンは、レジスト通液前の置換が不要。
パネルガード1-2-3 PDP ディスポーザブルフィルター
ポリプロピレン不織布、0.6-5.0µm、マニホ-ルドタイプ
  • 専用のマニホールドを使用することにより、簡単な操作でフィルターを交換できます。
  • 除粒子性能が高いサーフェイスタイプ。
  • カラーレジストの塗布ラインに適しています。
  • 基板サイズに合わせてショートタイプとロングタイプをご用意。
プロセスガードNP 1-2-3 ディスポーザブルフィルター
多層ポリプロピレン不織布、0.5-10µm、マニホールドタイプ
  • 専用のマニホールドを使用することにより、簡単な操作でフィルターを交換できます。
  • デプスフィルターとサーフェイスフィルターの特長を備えた多層構造。
  • カラーレジストやスラリーの塗布ラインに適しています。
  • 基板サイズに合わせてショートタイプとロングタイプをご用意。
オプチマイザーST2マニホールド
パネルガード1-2-3シリーズフィルター専用マニホールド
  • レバー操作による垂直着脱方式を採用、フィルター交換が容易。
  • オプチマイザーST、パネルガード1-2-3、およびプロセスガード1-2-3シリーズのフィルターに対応。
プロセスガードインライン ディスポーザブルフィルター
ポリプロピレン不織布、1.2-10µm
  • 除粒子性能が高いサーフェイスタイプ。
  • コンパクトなデザイン。
プロセスガードNPディスポーザブルフィルター
多層ポリプロピレン不織布、0.5-20µm、カプセルタイプ
  • デプスフィルターとサーフェイスフィルターの特長を備えた多層構造。
  • 低圧損でろ過効率の良いプリーツ構造。
プロセスガードNPカートリッジフィルター
多層ポリプロピレン不織布、0.5-40µm、10/20インチタイプ
  • デプスフィルターとサーフェイスフィルターの特長を備えた多層構造。
  • 低圧損でろ過効率の良いプリーツ構造。
  • 豊富な孔径、カートリッジ形状のラインアップ。
パネルガードPDP ディスポーザブルフィルター
ポリプロピレン不織布、0.6-10µm、カプセルタイプ
  • 除粒子性能が高いサーフェイスタイプ。
  • 低圧損でろ過効率の良いプリーツ構造。