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インテグリスのSFG半導体用グラファイト(イオン注入、プラズマエッチング、成膜の用途に対応)の詳細をご確認ください。
産業
  • 半導体
  • ソーラー/PV
プロセス
  • イオン注入
  • 成膜
  • ドライエッチング
  • 薄膜
ショア硬さ
  • 84
見かけ密度、g/cm3
  • 1.77 (0.064)
DFP半導体用グラファイトは、注入用途の構造コンポーネントに理想的です。
産業
  • 半導体
  • ソーラー/PV
プロセス
  • イオン注入
  • 成膜
  • ドライエッチング
  • 薄膜
ショア硬さ
  • 74
見かけ密度、g/cm3
  • 1.77 (0.064)
PLS半導体用グラファイトは、高い熱伝導率と電気伝導率を備えています。この特殊材料はプラズマエッチング、成膜に理想的です。
産業
  • 半導体
  • ソーラー/PV
プロセス
  • イオン注入
  • 成膜
  • ドライエッチング
  • 薄膜
ショア硬さ
  • 68
見かけ密度、g/cm3
  • 1.77 (0.064)
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