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ZEE-2 半導体用グラファイトは、現在と次世代のイオン注入装置の性能を向上させる硬質の耐摩耗性材料です。
ショア硬さ
  • 100
見かけ密度、g/cm3
  • 1.77 (0.064)
熱膨張係数、µm/m °C
  • 8.4 (4.65)
圧縮強度、MPa
  • 193 (28,000)
インテグリスのSFG半導体用グラファイト(イオン注入、プラズマエッチング、成膜の用途に対応)の詳細をご確認ください。
ショア硬さ
  • 84
見かけ密度、g/cm3
  • 1.77 (0.064)
熱膨張係数、µm/m °C
  • 8.1 (4.4)
圧縮強度、MPa
  • 166 (24,100)
DFP半導体用グラファイトは、注入用途の構造コンポーネントに理想的です。
ショア硬さ
  • 74
見かけ密度、g/cm3
  • 1.77 (0.064)
熱膨張係数、µm/m °C
  • 8.1 (4.5)
圧縮強度、MPa
  • 140 (20,000)
PLS半導体用グラファイトは、高い熱伝導率と電気伝導率を備えています。この特殊材料はプラズマエッチング、成膜に理想的です。
ショア硬さ
  • 68
見かけ密度、g/cm3
  • 1.77 (0.064)
熱膨張係数、µm/m °C
  • 8.2 (4.55)
圧縮強度、MPa
  • 100 (14,500)
比較のためにこの商品を追加する場合は、他の4つの商品のうち1つのチェックマークを外してください。 比較のためにこの商品を追加する場合は、他の2つの商品のうち1つのチェックマークを外してください。