TEB

UltraPur™ (ウルトラピュア) TEBは、低圧プラズマCVD（PECVD）プロセスによるシリコン酸化膜へのドーピングでのホウ素源として広く使用される有機ホウ素エステル化合物です。ウルトラピュア TEB は、ジボランとホウ酸トリメチルに代わる製品と考えられています。

ジボランに比べて性能特性が向上
ジボランとホウ酸トリメチルに代わる製品
液体原料の取り扱いが容易
人体への影響が軽減
純度レベルが向上
2年の標準保存期間

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アプリケーション TEB アプリケーション

PE CVD

仕様書

製品の仕様

インテグリス製キャニスターの最大充填重量
材料特性
化学式:		C6H15O3B
分子量:		146.02
密度:		0.8546 gm/mL
沸点:		118.5°C @ 0.1 mm Hg
融点:		-84.8°C
引火点 (密閉法):		11°C
純度分析
元素	検出限界 [ppb]	仕様 [ppb]	分析方法
アルミニウム	0.012	0.200	ICP-MS
アンチモン	0.018	0.100	ICP-MS
ヒ素	0.018	0.100	ICP-MS
バリウム	0.003	0.100	ICP-MS
ベリリウム	0.005	0.100	ICP-MS
ビスマス	0.004	0.100	ICP-MS
カドミウム	0.005	0.050	ICP-MS
カルシウム	0.043	0.800	ICP-MS
セリウム	0.003	0.050	ICP-MS
クロム	0.007	0.100	ICP-MS
コバルト	0.005	0.050	ICP-MS
銅	0.008	0.100	ICP-MS
ガリウム	0.004	0.050	ICP-MS
ゲルマニウム	0.010	0.050	ICP-MS
金	0.006	0.100	ICP-MS
ハフニウム	0.005	0.050	ICP-MS
インジウム	0.004	0.050	ICP-MS
イリジウム	0.004	0.050	ICP-MS
鉄	0.014	0.300	ICP-MS
鉛	0.004	0.100	ICP-MS
リチウム	0.006	0.050	ICP-MS
マグネシウム	0.005	0.200	ICP-MS
マンガン	0.038	0.100	ICP-MS
水銀	0.032	0.100	ICP-MS
モリブデン	0.008	0.100	ICP-MS
ニッケル	0.007	0.200	ICP-MS
ニオブ	0.003	0.050	ICP-MS
パラジウム	0.010	0.050	ICP-MS
白金	0.012	0.050	ICP-MS
カリウム	0.072	0.200	ICP-MS
レニウム	0.003	0.050	ICP-MS
ロジウム	0.002	0.050	ICP-MS
ルビジウム	0.003	0.050	ICP-MS
銀	0.013	0.050	ICP-MS
ナトリウム	0.032	0.500	ICP-MS
ストロンチウム	0.004	0.050	ICP-MS
タンタル	0.003	0.050	ICP-MS
タリウム	0.003	0.050	ICP-MS
トリウム	0.004	0.050	ICP-MS
スズ	0.033	0.100	ICP-MS
チタン	0.015	0.100	ICP-MS
タングステン	0.006	0.050	ICP-MS
ウラン	0.004	0.100	ICP-MS
バナジウム	0.010	0.500	ICP-MS
亜鉛	0.028	0.200	ICP-MS
ジルコニウム	0.004	0.050	ICP-MS
粒子サイズ	仕様 [mL]	分析方法
> 0.2 µm	10	PMS
> 0.3 µm	7	PMS
> 0.5 µm	5	PMS
> 1.0 µm	1	PMS
パラメータ	検出限界	仕様	分析方法
含有率	—	99.99%	GC
塩化物	—	50 ppb	標準
色	—	5	標準
純度	—	99.9999995%	ICP-MS
水	1.3 ppm	20 ppm	KF滴定装置
5 ガロン		15,750 g
10 ガロン		30,500 g
200 リットル		100,000 g

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