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  • ショア硬性
  • 見かけ密度、g/cm3
  • 熱膨張係数、µm/m °C
  • 圧縮強度、MPa
  • 電気抵抗率、µΩ-cm
  • 曲げ強度、MPa
  • 酸化しきい値、°C
  • 孔径、µm
  • 引張強度、MPa
  • 熱伝導率、W/m-K
  • 業種
  • プロセス
AXF-5Q10W インプランタブルグラファイトは、タングステン含有グラファイトで米国FDAクラスIIおよびIIIアプリケーションに最適です。
見かけ密度、g/cm3
  • 1.95 (0.070)
熱膨張係数、µm/m °C
  • 7.7 (4.3)
電気抵抗率、µΩ-cm
  • 600 (1,500)
曲げ強度、MPa
  • 75 (11,000)
AXF-5Q インプランタブル グラファイトは、タングステン無含有グラファイトで米国FDAクラスIIおよびIIIアプリケーションに最適です。
ショア硬さ
  • 74
見かけ密度、g/cm3
  • 1.78 (0.064)
熱膨張係数、µm/m °C
  • 7.9 (4.4)
圧縮強度、MPa
  • 138 (20,000)
AXF-5Q 20W インプランタブルグラファイトは、タングステン含有量の高いグラファイトで米国FDAクラスIIおよびIIIアプリケーションに最適です。
見かけ密度、g/cm3
  • 2.10 (0.076)
熱膨張係数、µm/m °C
  • 7.7 (4.3)
電気抵抗率、µΩ-cm
  • 610 (1,550)
曲げ強度、MPa
  • 68 (10,000)
ZEE-2 半導体用グラファイトは、現在と次世代のイオン注入装置の性能を向上させる硬質の耐摩耗性材料です。
ショア硬さ
  • 100
見かけ密度、g/cm3
  • 1.77 (0.064)
熱膨張係数、µm/m °C
  • 8.4 (4.65)
圧縮強度、MPa
  • 193 (28,000)
インテグリスのSFG半導体用グラファイト(イオン注入、プラズマエッチング、成膜の用途に対応)の詳細をご確認ください。
ショア硬さ
  • 84
見かけ密度、g/cm3
  • 1.77 (0.064)
熱膨張係数、µm/m °C
  • 8.1 (4.4)
圧縮強度、MPa
  • 166 (24,100)
粒径5 µmのマイクロ構造を持つSCFグラファイトは、高い強度を備え、パーティクルをほとんど発生させず、競合材料より耐摩耗性に優れています。
ショア硬さ
  • 91
見かけ密度、g/cm3
  • 1.77 (0.064)
熱膨張係数、µm/m °C
  • 8.5 (4.7)
圧縮強度、MPa
  • 163 (23,600)
HPD半導体用グラファイトは、炭素ターゲット、高密度用途向けに理想的な材質です。
ショア硬さ
  • 80
見かけ密度、g/cm3
  • 1.76 (0.0636)
熱膨張係数、µm/m °C
  • 8.1 (4.5)
圧縮強度、MPa
  • 156 (22,600)
DFP半導体用グラファイトは、注入用途の構造コンポーネントに理想的です。
ショア硬さ
  • 74
見かけ密度、g/cm3
  • 1.77 (0.064)
熱膨張係数、µm/m °C
  • 8.1 (4.5)
圧縮強度、MPa
  • 140 (20,000)
CZR半導体用グラファイトは、均一なマイクロ構造を持つ低密度の経済的な材料で、従来型のビームラインコンポーネントに理想的です。
ショア硬さ
  • 70
見かけ密度、g/cm3
  • 1.65 (0.0596)
熱膨張係数、µm/m °C
  • 7.8 (4.3)
圧縮強度、MPa
  • 93 (13,500)
TRA半導体用グラファイトは、構造コンポーネント、レガシーコンポーネントに理想的です。
ショア硬さ
  • 72
見かけ密度、g/cm3
  • 1.72 (0.0621)
熱膨張係数、µm/m °C
  • 7.9 (4.4)
圧縮強度、MPa
  • 118 (17,100)
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