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エピタキシャル

エピタキシャル工程で使用される主要製品群

 

LEDの量産ラインでは、MOCVDを使用して発光層をエピタキシャル(結晶成長)で成膜します。このプロセスでは有機金属化合物、水素、窒素、アンモニア、アルシン、モノシラン、塩化水素などのプロセスガスが使用されます。これらのプロセスガス中に含まれる水分、酸素などの不純物は、酸素原子がエピ膜に取り込まれる要因となり、その結果として、フォトルミネッセンス、キャリア移動度、キャリア密度などの光学および電気特性に影響を与えます。

インテグリスのガス精製システムまたはゲートキーパーを使用することにより、アンモニアガスおよび水素ガス中の不純物を1ppb未満に低減し、LEDの発光特性を改善できます。

製品の用途または区分で絞込みできます。
絞込み結果: このカテゴリーにおけるご指定の選択結果は以下の通りです。
エアロネクス ガス精製システム

複数の精製ユニットを内蔵し、自動的に再生するガス精製システム

ゲートキーパー

特殊材料ガスや不活性ガス等、用途に合わせて精製メディアが異なるガスピューリファイヤー

ウェハーガード シリーズ

プロセスガス用に設計された高性能フィルター