Close
液体のろ過・精製
ガスのろ過・精製
液体の移送・制御
ウェーハ/レチクル容器
半導体後工程容器
ハードディスク容器
特殊材料
CMP消耗品
半導体
フラットパネルディスプレイ
ハードディスクドライブ
エネルギー分野
高輝度LED
ホーム
>
アプリケーション
>
フラットパネルディスプレイ
>
レジスト塗布
>
マニホールドタイプ
> パネルガード1-2-3
アプリケーション
半導体
ウェーハ出荷・搬送
洗浄・剥離
成膜・ドライエッチ
リソグラフィ
CMP
後工程
フラットパネルディスプレイ
洗浄・剥離・エッチング
レジスト塗布
ハードディスクドライブ
エネルギー分野
太陽光発電
リチウムイオン電池
高輝度LED
エピタキシャル
ウェーハ出荷
製品情報の絞込みは、以下のフィールドから1つ以上の項目を選択し、検索ボタンをクリックしてください。
産業別絞込み
製品の用途または区分
製品名またはキーワード入力
または
または
このページを電子メールで知らせる。
このページを印刷
このページを送信
このページを電子メールで誰かに知らせるには、以下のフォームに必要事項を入力して、最後に「送信」をクリックします。
ご指定のアドレスに電子メールが送信されました。
他の相手先にも送信する。
閉じる
パネルガード1-2-3 ディスポーザブルフィルター
疎水性UPEメンブレン、孔径0.05-0.2µm、マニホールドタイプ
mc0409.pdf
(217175)
イメージの拡大
専用のマニホールドを使用することにより、簡単な操作でフィルターを交換できます。
液晶ディスプレイのフォトレジスト用に開発されたデザイン。
基板サイズに合わせてショートタイプとロングタイプをご用意。
超高分子量ポリエチレン(UPE)メンブレンは、レジスト通液前の置換が不要。
パネルガード1-2-3 ディスポーザブルフィルター
孔径
0.05, 0.1, 0.2 µm
材質
フィルター:超高分子量ポリエチレン(疎水性)
サポート:高密度ポリエチレン
ハウジング:ポリプロピレン
O-リング:パーフロ
膜面積
ショート:1600cm2、ロング:3000cm2
最高使用圧力
0.39 MPa at 25 ℃
最大許容差圧
0.27 MPa at 25 ℃
最高使用温度
40 ℃
製品型番
AFUZ0SPM1 AFUZ0LPM1 AFUV0SPM1 AFUV0LPM1 AFUG0SPM1 AFUG0LPM1
関連製品
オプチマイザーST2マニホールド
How to read a part number
How to order from Entegris