「ホトマスク技術展」出展のご案内
(Published: Friday, March 14, 2008)
<<展示会概要>>
名称：
会期：
会場：
ブースNo.：
主催：
公式サイト： | Photomask Japan 2008
第15回ホトマスク技術展示会
2008年4月16日(水)-17(木)
パシフィコ横浜 アネックスホール
D21（東5ホール）
Photomask Japan/ BACUS/ SPIE
www.photomask-japan.org
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<<出展のみどころ>>
レチクルポッドをはじめとした保管容器と出荷容器、不活性ガス中の粒子・揮発性有機不純物を除去するインライン型ガス精製器、AMCコントロールを可能にするケミカルエアフィルター、マスクにおけるヘイズ問題のソリューション「クラリライト」、洗浄・剥離用超精密フィルター、フィルター内蔵フォトケミカルディスペンスシステムなどを出展します。
<<主な出展予定>>
レチクルポッド
マスクパッケージ
「クラリライト」レチクルヘイズソリューション
インライン型ガス精製器
ケミカルエアフィルター
洗浄・剥離用超精密フィルター
フォトケミカルディスペンスシステム
注）出展製品は変更になる場合があります。