「ホトマスク技術展」出展のご案内
(Published: Monday, March 15, 2010)
<<展示会概要>>
名称：
会期：
会場：
主催：
公式サイト： | Photomask Japan 2010
第17回ホトマスク技術展示会
2010年4月13日(水)、14(木)
パシフィコ横浜 アネックスホール
Photomask Japan/ SPIE
www.photomask-japan.org
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<<出展のみどころ>>
次世代マスクとして開発が進むEUVマスクの製造工程に使用される容器およびフィルターを展示します。
EUVマスクの搬送・保管・出荷を一貫して行える「EUV-1000」マスクポッドをはじめ、マスクのヘイズ対策用パージシステム、各種薬品・純水中の粒子除去用フィルター、純水中の不純物除去システム、レジストろ過用3nmフィルター、研磨工程向けスラリー分級用フィルターなどをご紹介します。
<<主な出展予定>>
| EUVマスクポッド | EUV-1000 | |
| 200mmレチクルポッド | RSP-200 | |
| ヘイズ対策システム | クラリライト | |
| 超純水システム | リキッドレンズ | |
| 洗浄・剥離用超精密フィルター | トレントATE 15nm | |
| レジスト用超精密フィルター | インパクト2 3nm | |
| CMPフィルター | ソラリスCL | |
注）出展製品は変更になる場合があります。