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「セミコン・ジャパン2009」出展のご案内

(Published: Wednesday, October 07, 2009)

 

半導体製造に係わる精製・保護・搬送関連製品の最先端テクノロジーに加え、グラファイト、シリコンカーバイトの精製・加工技術および太陽電池やMEMS製造に係わる製品と技術を紹介します。

 

日本インテグリスのブースへ是非お立ち寄りください。

Entegris in Semicon Japan

《展示会概要》

名称:
会期:
会場:
ブースNo.:
主催:
公式サイト:
セミコン・ジャパン2009
2009年12月2日(水)-4日(金) 10:00-17:00
幕張メッセ
3A-304(ホール3)
SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International)
『セミコン・ジャパン2009』オフィシャルWebサイト
Semicon Japan 2009

 
《主な出展予定製品》

ウェーハ/マスク ハンドリング関連製品
450mmウェーハ出荷・工程内搬送容器 (参考出展) 450mm FOUP/FOSB
300mmウェーハ出荷容器   SB300 FOSB
300mmウェーハ工程内搬送容器   スペクトラ FOUP
ウェーハ容器内の水分・酸素を低減 (参考出展) クラリライト・ウェーハ
業界初EUVマスクポッド (参考出展) EUV-1000
低アウトガスレチクル出荷容器 (New) SMP625
フォトリソグラフィ関連製品
POU用ワンタッチフィルター (New) インパクト2 UPE 5nm / Nylon 10nm
バルク用カートリッジフィルター (New) マイクロガードLE Nylon 10nm
高性能ケミカルディスペンスシステム   インテリジェン ミニ
洗浄・剥離 / CMP関連製品
薬液用 15nm フィルター (New) トレントPlus 1500/3000
薬液用高清浄 20nm フィルター (New) フロロガードUCM ATE
純水・温純水用金属イオン除去フィルター (New) プロテゴPlus
液体用フローコントローラ   NT® 6510/6520
高流量対応バルブ (New) 1.5"-2" オリフィス バルブ
省スペース対応バルブ (New) CR8/CH8 1/4"-3/4" オリフィス バルブ
CMPスラリー用フィルター (New) プレナキャップKPX
CMP用リテーナーリング (New) プレナエッジ
CMP後洗浄用ブラシ   プレナコア
ドライエッチ / 成膜関連製品
ロードロック/プロセスチャンバー用ディフューザー (New) チャンバーガード2  ディフューザー
インラインガスフィルター (New) ウェハーガード2 SF 3XP
インライン型ガス精製器   GateKeeper®
不活性ガス中のハイドロカーボン・酸・塩基性不純物除去
ルミナスガード
太陽電池 / MEMS関連製品    
太陽電池用ウェーハキャリア   PA156 キャリア
高流量インラインガスフィルター (New) ウェハーガードSG
高粘度ケミカルディスペンスシステム (参考出展) インテリジェンHV
グラファイト / SiC 製品
超高純度グラファイト製品   高純度材料用るつぼ
Super SiC 製品   プロセス用ウェーハキャリア


この他にも色々な最新製品を展示する予定です。

注)出展製品は予告無く変更される場合がありますので、予めご了承ください。