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本年度開講する新しいセッションにはTS-08XXという番号がついています。これ以外の番号のセッションは過去に行ったセッションの再セッションまたは、その一部を変更して行います。
本セッションは、弊社製品をご使用またはご検討されているエンドユーザー様および装置・材料メーカー様を対象としております。販売代理店様のお申込みは、弊社までご相談願います。
TS-0801：薬液用フィルタの基礎
ご対象者：純水・各種薬品（水溶液系薬品、溶剤、フォトケミカルなど）をご使用のお客様や製造にご関係の方
内容の種類：■基礎編 □応用編 □実用編 (■印の内容です)
内容：
各種液体に使用される精密ろ過フィルタの、材質、構造、ろ過膜の製造方法、粒子除去メカニズム、および性能評価方法等について説明します。
また、フィルタを使用される際に重要となる、フィルタの濡れ性、親水化処理方法、液置換方法、フィルタの目詰まりと流量低下の関係、および薬液との適合性等について紹介します。
薬液用フィルタに対する基礎的なご理解を深めていただき、各プロセスに適したフィルタの選定、フィルタの寿命管理、あるいは製品の品質向上等にお役立てください。
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TS-0503：薬液フィルタにおけるトラブル事例と原因の解析
ご対象者：半導体洗浄装置、ケミカルエッチング装置、高純度薬品の供給設備等にご関係の方
内容の種類：□基礎編 ■応用編 ■実用編 (■印の内容です)
内容：
ULSIの高速・高密度化、および液晶ディスプレイの高精細化は、これら電子デバイスの製造プロセスにおいて使用される洗浄液や材料のさらなる清浄化を要求し、フィルタの役割をますます重要なものとしています。
最適なフィルタを、適切にご使用いただくことにより、製品歩留まりの改善あるいは品質の向上が実現されています。しかしながら、その一方で、使用開始当初から薬液が流れない、目詰まりが早い、ろ過後も粒子が低減しないといったトラブルが発生することも少なくありません。
本セッションでは、お客様が実際にご経験されたトラブル例を、その原因解析結果と共に紹介します。フィルタに関連する問題の要因を知って頂くことによって、トラブルの迅速な解決あるいは防止にお役立て下さい。
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TS-0802：液体用金属除去フィルタの基礎と応用
ご対象者：半導体洗浄装置、ケミカルエッチング装置、高純度薬品の供給設備等にご関係の方
内容の種類：■基礎編 ■応用編 ■実用編 (■印の内容です)
内容：
半導体デバイスの微細化および高集積化が進むほど、極微量の金属不純物による製品歩留まりへの影響が増大します。最先端の半導体デバイスは、ウェーハリンス用の超純水に対して、極めて高い清浄度を要求するようになっています。
このような、超微量の金属不純物管理が求められるプロセスでは、POU（Point Of Use）において、金属イオン除去用フィルタを使用することが、金属汚染の低減に非常に有効であると認知され始めています。
本セッションでは、金属イオン除去フィルタによる、イオン除去メカニズムおよびその効果を、イオン交換樹脂との比較、液体中における金属の存在形態、評価例等を交えながら説明します。
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TS-0803：薬液用フィルタの基礎 (フォトリソ編)
ご対象者：フォトリソプロセス、レジスト・溶剤・有機薬品をご使用のお客様や製造にご関係の方
内容の種類：■基礎編 □応用編 □実用編 ■印の内容です)
内容：
主にフォトリソグラフィプロセスにおいて使用される液体用精密ろ過フィルタの、材質、構造、ろ過膜の製造方法、粒子除去メカニズム、および性能評価方法等について説明します。
また、フォトレジストや現像液のろ過を行う際に重要となる、フィルタの濡れ性、親水化処理方法、ろ過膜の吸着性等について紹介します。
薬液用フィルタに対する基礎的な理解を深めていただき、最適なフィルタの選定、フィルタの寿命管理、あるいは製品の品質向上等にお役立てください。
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TS-0804：フォトリソプロセス用フィルタの最適な使用方法
ご対象者：フォトリソプロセス、レジスト・溶剤・有機薬品をご使用のお客様や製造にご関係の方
内容の種類：□基礎編 ■応用編 ■実用編 ■印の内容です)
内容：
フォトリソグラフィプロセスにおいては、フォトレジスト、反射防止剤あるいは現像液等の薬液中に存在する気泡やソフトゲルが、ディフェクトの原因となります。このため、これらの薬液をろ過する際には、高い粒子除去性能を有するフィルタの適用に加え、通液開始時のエア抜きや、ソフトゲルの除去に適したろ過速度といった、フィルタの使い方も、ディフェクトを低減するために重要な要素となります。
本セッションでは、フォトリソプロセス用の薬液ろ過に最適なフィルタについて、孔径の微細化、あるいは濡れ性等、フィルタ性能の観点から説明すると共に、その性能をより効果的に引き出す使用方法についても紹介します。
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TS-0805：フィルタによる気体精製技術と応用
ご対象者：フォトリソプロセス、各種ドライ成膜プロセスにご関係の方
内容の種類：■基礎編 ■応用編 ■実用編 (■印の内容です)
内容：
固体として存在する微粒子だけではなく、気体として存在する不純物の管理が、電子工業製品の品質、あるいは歩留まりの向上に重要となっています。特に、半導体製造の先端フォトリソグラフィプロセスにおいては、ケミカル汚染と呼ばれる揮発性不純物の影響が甚大であり、工場の設計段階から、その対策が求められるようになりました。
本セッションでは、気体状不純物を気流中から効果的に取り除くケミカルフィルタの技術について解説します。また、ケミカルフィルタの技術が、フォトリソグラフィプロセスにおいて、どのように応用されているのかを、近年大きな問題となっているレチクルヘイズ等の例を交えながら、紹介します。
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