GateKeeper® GPU オゾン ガス ピューリファイヤー
- 化学気相成長 (CVD) 装置
- 乾式エッチング/アッシング 装置
- 剥離・洗浄 (WEC) 装置
仕様書
構成材質 | フィルター メンブレン | PTFE |
精製媒体 | 無機多孔材 | |
ハウジング | 316L ステンレス スチール | |
表面仕上げ、内部 | Ra < 0.17 µm (電解研磨) | |
不純物捕捉率 | 揮発性金属 | Cr および Mn |
揮発性金属粒子除去性能 | > 99 % (Cr) | |
粒子 | > 99.9999999 % (粒子 ≥ 0.003 µm) | |
接続 | 1/4" ガスケット シール | |
ガス | オゾン (O3) < 300 g/Nm3 濃度 | |
流入金属レベル | Cr:< 1 ppm | |
推奨流量 | 5 ~ 25 slm | |
ハウジング設計圧力 | 0.99 MPa @ 40°C | |
使用条件 | オゾンガスの精製条件 | 圧力:20 kPa 温度:20° ~ 30 °C |
・仕様を超える流量および O3 ガス濃度については、お問い合わせください。 ・20 kPa を超える圧力で使用する場合は、インテグリスにお問い合わせください。 |
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型番 | 製品詳細 |
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GPUS200TOZ04R12CA | GateKeeper® GPU ozone gas purifier |