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Chuck Cleaning Wafer (CCW)

Maximizes tool uptime and operational efficiency by removing defects and reducing downtime.

The CCW is an ultra-pure silicon wafer with flat polymer coating designed to clean wafer chucks of advanced semiconductor capital equipment. Standard CCWs are available in 200 and 300 mm sizes. Smaller diameter wafers or specialty formats are available upon request.

  • Enables tool chuck cleaning without having to open the process chamber
  • Reduces unplanned downtime caused by contamination
  • Allows chambers to be back in production within minutes
  • Increases yield and extends performance lifetime
  • 詳細を表示 詳細を非表示
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