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  • ブランド名
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業界最高水準のリニアフィルトレーションテクノロジー
ブランド名
  • FlowPlane™
薬液
  • 反応性の高い酸
  • 反応性の高い塩基
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • < 10 nm
  • 14 - 22 nm
設置ポイント
  • 装置内
Torrento® (トレント) X フィルターは、水溶性薬液、特にアウトガスの発生する薬液、反応性の高い酸・アルカリ向けの業界最高レベルのフィルターです。
ブランド名
  • Torrento®
薬液
  • 反応性の高い酸
  • 反応性の高い塩基
  • レジスト剥離液
微細加工の寸法(レイヤー)
  • < 10 nm
  • 14 - 22 nm
設置ポイント
  • 装置内
  • 供給点
  • バルク
Torrento® (トレント) S フィルターは、高流量と高粒子除去性能を実現する溶剤およびBEOL薬液用の最高クラスの最先端フィルターです。
ブランド名
  • Torrento®
薬液
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • < 10 nm
  • 14 - 22 nm
設置ポイント
  • 装置内
  • 供給点
  • バルク
QuickChange® (クイックチェンジ) NX フィルターは、水溶性薬液、特にアウトガスの発生する薬液、反応性の高い酸・アルカリ用の先進的なフィルターです。
ブランド名
  • QuickChange®
薬液
  • 反応性の高い酸
  • 反応性の高い塩基
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • 28 - 90 nm
  • > 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
  • 供給点
  • バルク
Fluorogard® (フロロガード) NX フィルターは、アウトガスが発生しない薬液、水溶液、酸・アルカリ、および最先端の溶剤に対応するクリーンでコスト効率に優れたフィルターです。
ブランド名
  • Fluorogard®
薬液
  • 反応性の高い酸
  • 反応性の高い塩基
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • 28 - 90 nm
  • > 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
  • バルク
Guardian™ (ガーディアン) ECD フィルターは、常温の希釈酸・アルカリ向けに開発されたフィルターです。
ブランド名
  • Guardian™
薬液
  • 希釈酸
  • 希釈塩基
微細加工の寸法(レイヤー)
  • < 10 nm
  • 14 - 22 nm
  • 28 - 90 nm
  • > 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
Intercept® (インターセプト) HP / HS フィルターは、 業界最高レベルの希釈酸(常温)用フィルターです。
ブランド名
  • Intercept®
薬液
  • 希釈酸
微細加工の寸法(レイヤー)
  • 14 - 22 nm
  • 28 - 90 nm
  • > 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
Impact® (インパクト) 8G ディスポーザブル フィルターは、優れた流量特性に加えマイクロバブルの発生を抑制する業界最高レベルのウルトラクリーンなフォトケミカル向け使用点用フィルターです。
ブランド名
  • Impact®
薬液
  • フォトレジスト
  • フォトケミカル
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • < 10 nm
  • 14 - 22 nm
  • 28 - 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
Eximor® (エキシモア) SV5 ディスポーザブル フィルターは、NTDおよびRRC向けに設計された先進的でクリーンな使用点用フィルターです。
ブランド名
  • Eximor™
薬液
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • 14 - 22 nm
設置ポイント
  • 装置内
Solaris® (ソラリス) NMB フィルターは、 サブ45nmのテクノロジーノードにおいて、 マイクロスクラッチの発生を防ぐ業界最高レベルの CMPスラリー用フィルターです。
ブランド名
  • Solaris®
薬液
  • スラリー
微細加工の寸法(レイヤー)
  • < 10 nm
  • 14 - 22 nm
  • 28 - 90 nm
  • > 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
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