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Reliably control contaminants in bulk ultrapure and DI water applications with our high-performance Trinzik™ UPW ultrapure water filters
ブランド名
  • Trinzik™
薬液
  • DI Water
  • Ultrapure Water
設置ポイント
  • Bulk
  • Point of Tool
産業
  • Semiconductor
  • Flat Panel Display
  • Data Storage
  • Solar
  • LED
Enhance yield on batch wet process stations using our high-flow Trinzik™ PSP dilute process filters
ブランド名
  • Trinzik™
薬液
  • Dilute Acids
  • Aqueous Acids
  • Detergents
  • DI Water
設置ポイント
  • Point of Tool
産業
  • Semiconductor
  • Chemical Manufacturing
Enhance yield in high-volume process applications using our high-flow Trinzik™ PEH aqueous process filters
ブランド名
  • Trinzik™
薬液
  • Dilute Acids
  • Aqueous Acids
  • Detergents
  • Dilute Bases
  • Bases
  • DI Water
設置ポイント
  • Bulk
産業
  • Flat Panel Display
  • Data Storage
業界最高水準のリニアフィルトレーションテクノロジー
ブランド名
  • FlowPlane™
薬液
  • 反応性の高い塩基
  • 反応性の高い酸
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • 14 - 22 nm
  • < 10 nm
設置ポイント
  • 装置内
Torrento® (トレント) X フィルターは、水溶性薬液、特にアウトガスの発生する薬液、反応性の高い酸・アルカリ向けの業界最高レベルのフィルターです。
ブランド名
  • Torrento®
薬液
  • 反応性の高い酸
  • 反応性の高い塩基
  • レジスト剥離液
微細加工の寸法(レイヤー)
  • < 10 nm
  • 14 - 22 nm
設置ポイント
  • 装置内
  • 供給点
  • バルク
Torrento® (トレント) S フィルターは、高流量と高粒子除去性能を実現する溶剤およびBEOL薬液用の最高クラスの最先端フィルターです。
ブランド名
  • Torrento®
薬液
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • < 10 nm
  • 14 - 22 nm
設置ポイント
  • 装置内
  • 供給点
  • バルク
QuickChange® (クイックチェンジ) NX フィルターは、水溶性薬液、特にアウトガスの発生する薬液、反応性の高い酸・アルカリ用の先進的なフィルターです。
ブランド名
  • QuickChange®
薬液
  • 反応性の高い酸
  • 反応性の高い塩基
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • 28 - 90 nm
  • > 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
  • 供給点
  • バルク
Fluorogard® (フロロガード) NX フィルターは、アウトガスが発生しない薬液、水溶液、酸・アルカリ、および最先端の溶剤に対応するクリーンでコスト効率に優れたフィルターです。
ブランド名
  • Fluorogard®
薬液
  • 反応性の高い酸
  • 反応性の高い塩基
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • > 90 nm
  • 28 - 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
  • バルク
Guardian™ (ガーディアン) ECD フィルターは、常温の希釈酸・アルカリ向けに開発されたフィルターです。
ブランド名
  • Guardian™
薬液
  • 希釈塩基
  • 希釈酸
微細加工の寸法(レイヤー)
  • 14 - 22 nm
  • < 10 nm
  • 28 - 90 nm
  • > 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
Intercept® (インターセプト) HP / HS フィルターは、 業界最高レベルの希釈酸(常温)用フィルターです。
ブランド名
  • Intercept®
薬液
  • 希釈酸
微細加工の寸法(レイヤー)
  • 14 - 22 nm
  • 28 - 90 nm
  • > 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
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