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エレクトロニクス用薬品


半導体およびマイクロエレクトロニクスの製造に使用する高純度のプロセス用薬品

インテグリスのリーダーシップとお客様との緊密な関係により、今日および次世代の技術を反映した高性能デバイスを可能にする先端エレクトロニクス用薬液において高品質で一貫した製造が可能となりました。

産業分野

  • 半導体製造
  • シリコン ウェーハ
  • フォトマスク
  • 太陽光発電 (太陽電池パネル) 製造
  • フラット パネル ディスプレイ製造
  • ハード ディスク ドライブ (HDD)

電子化学薬品にご関心がある場合

電子化学薬品にご関心がある場合

電子化学薬品にご関心がある場合

製品

お客様のニーズに応じて、1 桁 ppt (parts-per-trillion) から ppb (parts-per-billion) のカチオンレベルの幅広い半導体グレードの薬液を提供します。

インテグリスの高純度なエレクトロニクス用薬品の製品群には、酸、アルカリ、溶剤、ブレンド溶剤、独自の配合薬品があります。これらの製品は様々な濃度や出荷形態 (ボトル、ドラム、トートおよび ISO タンカー) で提供されます。

製品ポートフォリオ


アルカリ 溶剤
酢酸 水酸化アンモニウム アセトン
塩酸 フッ化アンモニウム DMSO
フッ化水素 水酸化カリウム 乳酸エチル
過酸化水素 水酸化ナトリウム ヘキサメチルジシラザン
硝酸   イソプロパノール
発煙硝酸   メタノール
リン酸   酢酸 n-ブチル
    N-メチル-2-ピロリドン
    PGMEA

薬品の種類

アプリケーション


エッチング液

  • 5:1 ~ 500:1 までの比率が可能なバッファード酸化エッチング液
  • BOE レンジ向けの独自の界面活性剤を使用
  • スピン装置でのシリコンエッチングなどの多くの独自プロセス向けの混酸エッチング液
  • アルミニウム、銅、クロム、金、ニッケル、プラチナ、タンタル、チタンを含む幅広い金属エッチング液
  • 合金や ITO にも対応

エッチング後の残渣除去液

  • エッチング後を含むポジ型レジストやネガ型レジストの剥離用として使用
  • さまざまな材料に対応した低エッチングレート
  • 有機物残渣除去に効果的
  • 安定した配合薬液
  • 独自の Nano-Strip® および GenSolve™ フォトレジストおよびエッチング後の残留物除去液

混合溶剤

  • 半導体および関連する高純度プロセスにおける洗浄
  • さまざまなエッチング-研磨プロセスに対応
  • 乾燥において非常に少ない蒸気発生
  • フォトレジスト向けの接着促進剤
  • ポジ型およびネガ型フォトレジスト剥離液
  • フラットパネルディスプレイ製造
  • ウェーハ基板の端面付近のフォトレジストを除去する薬液
  • フォトレジスト、スピンオングラス、Low-k 絶縁体、反射防止コーティング用の高純度中間体
  • フォトレジスト、研磨剤、溶剤、および潤滑剤向けのキャリア
  • クーラント、湿潤剤、増粘剤