エレクトロニクス用薬品
製品
お客様のニーズに応じて、1 桁 ppt (parts-per-trillion) から ppb (parts-per-billion) のカチオンレベルの幅広い半導体グレードの薬液を提供します。
インテグリスの高純度なエレクトロニクス用薬品の製品群には、酸、アルカリ、溶剤、ブレンド溶剤、独自の配合薬品があります。これらの製品は様々な濃度や出荷形態 (ボトル、ドラム、トートおよび ISO タンカー) で提供されます。
製品ポートフォリオ
酸 | アルカリ | 溶剤 |
酢酸 | 水酸化アンモニウム | アセトン |
塩酸 | フッ化アンモニウム | DMSO |
フッ化水素 | 水酸化カリウム | 乳酸エチル |
過酸化水素 | 水酸化ナトリウム | ヘキサメチルジシラザン |
硝酸 | イソプロパノール | |
発煙硝酸 | メタノール | |
リン酸 | 酢酸 n-ブチル | |
N-メチル-2-ピロリドン | ||
PGMEA |
薬品の種類
アプリケーション
エッチング液
- 5:1 ~ 500:1 までの比率が可能なバッファード酸化エッチング液
- BOE レンジ向けの独自の界面活性剤を使用
- スピン装置でのシリコンエッチングなどの多くの独自プロセス向けの混酸エッチング液
- アルミニウム、銅、クロム、金、ニッケル、プラチナ、タンタル、チタンを含む幅広い金属エッチング液
- 合金や ITO にも対応
エッチング後の残渣除去液
- エッチング後を含むポジ型レジストやネガ型レジストの剥離用として使用
- さまざまな材料に対応した低エッチングレート
- 有機物残渣除去に効果的
- 安定した配合薬液
- 独自の Nano-Strip® および GenSolve™ フォトレジストおよびエッチング後の残留物除去液
混合溶剤
- 半導体および関連する高純度プロセスにおける洗浄
- さまざまなエッチング-研磨プロセスに対応
- 乾燥において非常に少ない蒸気発生
- フォトレジスト向けの接着促進剤
- ポジ型およびネガ型フォトレジスト剥離液
- フラットパネルディスプレイ製造
- ウェーハ基板の端面付近のフォトレジストを除去する薬液
- フォトレジスト、スピンオングラス、Low-k 絶縁体、反射防止コーティング用の高純度中間体
- フォトレジスト、研磨剤、溶剤、および潤滑剤向けのキャリア
- クーラント、湿潤剤、増粘剤