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SEMICON® West 2017
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Eximor® (エキシモア) SV1 ディスポーザブル フィルターは、RRC向けに設計された先進的でクリーンな使用点フィルターです。
ブランド名
  • Eximor™
薬液
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • 14 - 22 nm
設置ポイント
  • 装置内
Eximor® (エキシモア) SV1フィルター用 フラッシングシェルは、エキシモア SV1 フィルターを使用しているラインの洗浄用空容器です。フィルターの代わりに装着してライン洗浄を行います。
ブランド名
  • Eximor™
薬液
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • N/A
設置ポイント
  • 装置内
Eximor® (エキシモア) SV5 ディスポーザブル フィルターは、NTDおよびRRC向けに設計された先進的でクリーンな使用点用フィルターです。
ブランド名
  • Eximor™
薬液
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • 14 - 22 nm
設置ポイント
  • 装置内
Impact® (インパクト) 8G/2 フラッシングシェルは、インパクト2 フィルターシリーズまたはインパクト 8Gフィルターを使用しているラインの洗浄用空容器です。フィルターの代わりに装着してライン洗浄を行います。
ブランド名
  • Impact®
薬液
  • フォトレジスト
  • フォトケミカル
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • < 10 nm
  • 14 - 22 nm
  • 28 - 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
Impact® (インパクト) 8G ディスポーザブル フィルターは、優れた流量特性に加えマイクロバブルの発生を抑制する業界最高レベルのウルトラクリーンなフォトケミカル向け使用点用フィルターです。
ブランド名
  • Impact®
薬液
  • フォトレジスト
  • フォトケミカル
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • < 10 nm
  • 14 - 22 nm
  • 28 - 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
Impact®2 (インパクト2) V2 フィルターは、迅速な交換が可能で、優れた除粒子性能のフォトレジストおよびフォトケミカル溶剤向けの使用点用フィルターです。
ブランド名
  • Impact®
薬液
  • フォトレジスト
  • フォトケミカル
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • < 10 nm
  • 14 - 22 nm
  • 28 - 90 nm
  • > 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
Impact® 2 (インパクト2) フィルター マニホールド (8G、2-V2)は、インパクトシリーズフィルター (インパクト プラスを除く)専用のマニホールドです。
ブランド名
  • Impact®
薬液
  • フォトレジスト
  • フォトケミカル
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • < 10 nm
  • 14 - 22 nm
  • 28 - 90 nm
  • > 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
Impact® (インパクト) ミニ フィルターは、コンパクト設計で、低ホールドアップボリュームにより迅速に立ち上げ可能なフォトケミカル溶剤用のフィルターです。
ブランド名
  • Impact®
薬液
  • フォトレジスト
  • フォトケミカル
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • < 10 nm
  • 14 - 22 nm
  • 28 - 90 nm
  • > 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
Optimizer® DEV (オプチマイザー DEV)フィルターは、親水性の超高分子量ポリエチレン製の高除粒子性能なアルカリ現像液用の小型ディスポーザブルフィルターです。
ブランド名
  • Optimizer®
薬液
  • 純水
  • 溶剤
  • フォトケミカル
微細加工の寸法(レイヤー)
  • 14 - 22 nm
  • 28 - 90 nm
  • > 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
Optimizer® ST2 (オプチマイザーST2) フィルター マニホールドは、オプチマイザーSTシリーズフィルターとパネルガード1-2-3シリーズフィルター専用のマニホールドです。
ブランド名
  • Optimizer®
薬液
  • フォトケミカル
  • 溶剤
微細加工の寸法(レイヤー)
  • < 10 nm
  • 14 - 22 nm
  • 28 - 90 nm
  • > 90 nm
設置ポイント
  • 装置内
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