完璧なパターンの追求
現在生産している電子デバイスの設計は、デジタルライフが必要とする性能と機能を提供するために、製造が複雑化しています。 フォトリソグラフィパターンの欠陥は、常に歩留まりに影響を及ぼしてきました。 これらのデバイスの機能性と信頼性を確保するために、このパターンの欠陥を防止することは、半導体製メーカーにとってこれまで以上に必須となっています。
リソグラフィ担当者のためのツールキット
ツールキットのひとつであるろ過という選択肢が増えることはリソグラフィー担当者にとって重要です。 フィルターメーカー、フォトケミカルメーカー、リソグラフィ担当者間の協力は、ろ過の性能を理解し、プロセスの早い段階で賢明な選択を行うために重要です。
注目のピクトグラム
リソグラフィパターンに影響を与える要因には、薬液、水、ガスの純度、搬送や工程内でウェーハに接する周囲や装置のエアなどが考えられます。 材料との適合性、温度、水分、装置と周囲環境の全体的な清浄度も、チップ製造プロセスを通してパターニングに影響します。 このような影響を制御することは、目的とする回路パターンを作成するために重要です。
注目のホワイトペーパー
完璧なパターンの追求
このホワイトペーパーは、リソグラフィ担当者がウェーハの歩留まりの向上、回路性能を向上、デバイスの延命のためにパターン形成の完全性を改善する方法を検討します。 一部は既知のものですが、リソグラフィにおける専門知識外のものもあります。
パターンの完全性を改善するソリューション
ピュラソル溶剤用ピューリファイヤーは、フォトレジストに使用される有機溶剤中のさまざまな微小な金属不純物を除去します。 独自の膜技術によるこの多機能なピューリファイヤーは、重要なプロセスにおける欠陥を減少します。
薬液に応じてメンブレンの粒子除去メカニズムを強化することにより、貴重なフォトケミカル中の不純物を除去する革新的なメンブレン技術。 この技術をさまざまなフィルターに適用することで、不純物を最大限に除去し、デバイスのパフォーマンスを向上させることができます。
最先端のフォトケミカル向けの不純物除去ソリューション。 固有の膜構造は、流量と優れたフィルターの清浄度を確保しつつ、ウェーハ上の欠陥を減らします。この ポリイミドは、フォトレジスト、フォトケミカル、酸性薬品に対し幅広い耐薬品性を有します。
インテリジェン フォトケミカル ディスペンス システムは、Impact® (インパクト) 2 フィルターマニホールドを備え、最先端の 2 ステージ ディスペンス テクノロジー により、ろ過とディスペンスを独立して行えます。 このディスペンスシステムは、低、中、高粘度の薬液に対応しています。 また、通信システムは、ポンプをネットワーク化し、効率的にプロセスのモニタリングを行うことができます。
薬液は、その輸送や、バルクコンテナから小さなドラムや搬送用容器への移送の際に粒子汚染の影響を受ける可能性があります。 汚染管理されたクリーンな NOWPak® (ナウパック) ライナーベース ボトルとキャニスターシステムは、このリスクを軽減し、充填、輸送、および供給を通して貴重な薬液を保護します。
ゲートキーパー自動再生型ガス精製システムは、ガス状汚染物質を ppt (1 兆分の1) レベルまで除去します。 このピューリファイヤーは、供給ガスの純度を管理し、装置に影響を与えることなくプロセスの汚染を防止するための費用対効果の高い方法を提供します。
VaporSorb™ (ベーパーソーブ) ケミカルフィルターは、工場の汚染を制御し、有害な AMC の影響からプロセス装置とウェーハを保護します。ガス状汚染物質の除去と低アウトガスの目的で設計されたこの化学的にクリーンなフィルターが、最新のテクノロジーノードを可能にします。