プロセスモニタリングシステム
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関連資料
アプリケーション
- CMP (化学機械平坦化) スラリー中の粗大/凝集粒子の検出
- ナノ粒子のオンライン分析
仕様書
システムの特徴
アキュサイザー ミニ CMP スラリー モニタリングシステム
アキュサイザー ミニは、お客様のスラリーやプロセス装置に合わせて、センサーやフルイディスク装置などのオプションを提供できるモジュール設計を採用しています。このシステムは、他の技術よりも高いカウントレートで、高精度、高分解能な結果を迅速に出力します。これにより、歩留まりを低下させる粗大粒子数 (LPC) を確実に計測することができます。
- さまざまなカスタム自動希釈モジュールにより、サンプルを適切な濃度に調整し、計測用センサーに供給
- 単一粒子光学サイジング (SPOS) 技術により、規定の粒径と濃度範囲で機能するセンサーが最高精度の結果を提供
- CMP スラリー供給システムの粗大粒子数を継続的にモニタリングし、ろ過やその他のプロセス条件の最適化に貢献
アキュサイザー ミニ FX システム
- 測定レンジ：0.65 ～ 20 µm、濃度 < 106 個/mL
- 1 段自動希釈システム
- 推奨 CMP スラリー：セリア系
アキュサイザー ミニ LE システム
- 測定レンジ：0.5 ～ 400 µm、濃度 < 10,000 個/mL
- 1 段または 2 段自動希釈システム
- 推奨 CMP スラリー：シリカ系
アキュサイザー ミニ FX-Nano システム
- 測定レンジ：0.15 ～ 20 µm、濃度 < 106 個/mL
- エクスポネンシャル希釈システム
- 推奨 CMP スラリー：不純物のないコロイダルシリカ
ナイコンプ オンラインシステム
モニタリングしないプロセスは、歩留まりの低下、コストのかかるダウンタイム、利益の減少につながります。ナイコンプ オンラインシステムは、製造プロセスをモニタリングし、無駄のない高品質な製品の製造を可能にします。
ナイコンプ N3000 オンラインシステム
- 動的光散乱 (DLS) 技術を用いたオンラインシステムで、コンパクトな光学ベンチと独自の自動希釈システムを組み合わせにより、あらゆる製造環境に適合
- 自動希釈により、塗料などの高濃度材料もモニタリング可能
- ソフトウェアの特別なトレンドグラフは、エンドポイントに達したときに異常 (OOC: Out Of Control) を知らせるアラーム設定が可能
- 様々なナノ粒子のプロセスに組み込んで、粒度分布をリアルタイムで測定できるコンパクトなシステム
テクニカルサポート
インテグリスは、生産のダウンタイムを短縮するために迅速なテクニカルサポートを提供します。ソフトウェアのバージョンアップ情報の送付が選択されました