Contamination Control

コンタミネーション コントロール


加工寸法の微細化と3D構造の急増により、半導体製造工場での汚染管理は、許容可能なデバイスの歩留まりを達成するために不可欠となっています。プロセスライフサイクルを全体を通して、エア、バルクガス、特殊ガス、および薬品の高度なろ過と精製が、欠陥を減少させ、歩留まりを向上させるための重要な要素となってきました。半導体製造メーカーは、受け入れる薬品やガスごとに許容できる粒子、金属、有機物などの限界値の仕様をますます厳しくしています。

粒子、ゲル、金属、空気中の分子状汚染物質 (AMC) はすべて、さまざまな形で製品、プロセス、装置に影響を与え、製品の欠陥につながります。液体用フィルターとピューリファイヤーは、欠陥の原因となる汚染物質がウェーハや基板に到達するのを防ぎます。インテグリスには、ユースポイント、バルク、チャンバー、ウェーハ、クリーンルーム、装置のいずれにおいても、液体、ガス、エアの先進的なろ過・精製のソリューションを提供し、あらゆるテクノロジーノードにおいてお客様の生産性と信頼性の要件に応えてきた長い歴史があります。

企業概要

Corporate Fact Sheet (日本語)

薬品製造における純度との戦い

薬品製造における純度との戦い

The digital transformation we are all experiencing as consumers present new challenges to material makers, as well as opportunities. Contamination control remains one of the largest challenges as integrated circuit (IC) technology advances. Better contamination control can significantly improve yield, and a one percent yield improvement can mean up to $150 million per year in net profit.

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