高純度ガスの供給
クイックリンク
半導体デバイスの歩留まりは、長い間不純物の影響を受けてきました。 プロセスノードが 5 nm 縮小し、形状がより複雑になるにつれ、チップ設計の製造における課題が新しい限界に書き換えられ、製造プロセスにおいてより不純物の影響を受けやすくなりました。
このようなニーズを満たすには、ガスの純度管理をサプライチェーン全体に拡大して、プロセスのばらつきを防ぎ、デバイスの性能と信頼性を向上させる必要があります。
注目のホワイトペーパー
望ましくない酸素を取り除く:材料におけるデバイス故障の防止
このホワイトペーパーは、先端ロジック、LED、および OLED 電子デバイスのコンポーネントの製造において必須となる成膜プロセスから酸素を除去できる数値、プロセス、科学、およびソリューションを取り上げています。 また、酸素を含む不純物を除去するために設計された精製製品を使用した、デバイスの故障に対する効果的な第一線の防御についても説明しています。
注目のホワイトペーパー
汚染物質のボウリング:ガス精製の新しい科学
このホワイトペーパーは、最高のデバイス歩留まりを達成するために、ウェーハ工程全体で原材料からガス供給の純度を管理するために精製の科学を使用することの重要性について説明しています。
注目のピクトグラム
高度なガス精製
幾何学的に複雑な半導体デバイス製造において高まるプロセスガス精製の重要性について説明したピクトグラム。 高度な精製がガス供給における様々な微量汚染物質に対応し、純度の基準値を達成し、維持する方法をご覧ください。
一貫したガスろ過のソリューション
ガスフィルターは、ウェーハ表面に粒子が付着するのを防止するために不可欠です。 ガスフィルターは 0.003 µm 程度の粒子を除去し、ウェーハの欠陥を低減するための効果的なツールですが、永遠に使用できるわけではなく、プロセスのばらつきの原因として見落とされることがあります。 ガスフィルターの予防保守をすることで、プロセスのパフォーマンスを向上させる方法をご覧ください。
3D 構造の製造におけるガス純度のトレンド
Solid State Technology (ソリッドステートテクノロジー) の Pete Singer 編集長は、インテグリスのガスマイクロコンタミネーションコントロール部門の副社長である Chris Vroman と半導体用プロセスガスのトレンドと、集積回路の製造環境において高まる純度と流量のニーズについて座談会を行いました。(英語のみ)
注目の資料
Brochure製品ソリューション
インテグリスの革新的なガスマイクロコンタミネーションコントロール製品は、最新のテクノロジーで構築されています。 インテグリスのガスピューリファイヤーと精製のソリューションで、先端デバイス、太陽電池、ライフサイエンス、リチウムイオン電池などにおけるこの先の課題に備えることができます。
インテグリスの超高純度ガス用フィルターは、超高純度ガス中の 0.003 µm 以上の粒子を除去します。 ウェハーガードガスフィルターは、ガスボックスのフットプリントを削減し、プロセスガスのスループットを向上させます。
インテグリスのガスディフューザーは、ロードロックチャンバー、冷却チャンバー、トランスファーチャンバー、プロセスチャンバーへ簡単に設置や改造ができ、ほとんどのシステムと互換性があります。