リソグラフィ担当者のためのツールキット
私たちは、ウェーハの歩留まり、パラメトリック性能、デバイスの信頼性を向上させるための完璧な回路パターンの作成に頭を悩ませています。ディフェクトと材料純度の間にはどのような関係があるでしょう？プロセスのばらつきを減らすために、不純物管理の通説を覆します。 リソグラフィ担当者のためのツールキットは、半導体製造のパフォーマンスを脅かすプロセスのばらつきを減らすための実用的なガイドです。
注目のピクトグラム
ろ過には、ガスや液の流体からすべての不純物を取り除くという理解しやすい目標があります。 しかし、実際のろ過の働きについては、多くの通説があります。 この通説を払拭することが重要で、この事実を理解し、どのように半導体製造における不純物管理技術に使用すべきかを理解するのに役立ちます。
ろ過の基礎：膜の濡れ性 (Part 1)
シニアアプリケーションエンジニアの Dr. Aiwen Wu が、純水とイソプロピルアルコール (IPA) に対する様々な樹脂製メンブレンの濡れ性をデモンストレーションします。 また、膜の表面修飾技術によって、その濡れ性を意図的に変え、特定のアプリケーション向けに液体のろ過性能を向上させる方法についても説明しています。(英語のみ)
再生時間：04:59
ろ過の基礎：膜の濡れ性 (Part 2)
シニアアプリケーションエンジニアの Dr. Aiwen Wu が、純水とイソプロピルアルコール (IPA) に対する未加工の疎水性 PTFE メンブレンと表面改質 PTFE (non-dewetting) メンブレンの濡れ性をデモンストレーションします。また、親水化処理の方法と強酸、塩基、高温水、界面活性剤での表面改質膜の利点についても説明します。(英語のみ)
再生時間：03:19
注目のホワイトペーパー
リソグラフィプロセスのばらつきを低減するための実用的なツールキット：プロセスのノイズを除去する
このホワイトペーパーは、リソグラフィー担当者が、歩留まりと信頼性に影響を与えるばらつきに対処するために、プロセス設計の早い段階でのろ過を検討の重要性と、膜の材質、構造、表面改質などの新しい技術が、現在のフォトケミカルの除去メカニズムに拡張されているかを説明しています。
パターンの完全性を改善するソリューション
ピュラソル溶剤用ピューリファイヤーは、フォトレジストに使用される有機溶剤中のさまざまな微小な金属不純物を除去します。 独自の膜技術によるこの多機能なピューリファイヤーは、重要なプロセスにおける欠陥を減少します。
薬液に応じてメンブレンの粒子除去メカニズムを強化することにより、貴重なフォトケミカル中の不純物を除去する革新的なメンブレン技術。 この技術をさまざまなフィルターに適用することで、不純物を最大限に除去し、デバイスのパフォーマンスを向上させることができます。.
最先端のフォトケミカル向けの不純物除去ソリューション。 固有の膜構造は、流量と優れたフィルターの清浄度を確保しつつ、ウェーハ上の欠陥を減らします。この ポリイミドは、フォトレジスト、フォトケミカル、酸性薬品に対し幅広い耐薬品性を有します。
インテリジェン フォトケミカル ディスペンス システムは、Impact® (インパクト) 2 フィルターマニホールドを備え、最先端の 2 ステージ ディスペンス テクノロジー により、ろ過とディスペンスを独立して行えます。 このディスペンスシステムは、低、中、高粘度の薬液に対応しています。 また、通信システムは、ポンプをネットワーク化し、効率的にプロセスのモニタリングを行うことができます。
薬液は、その輸送や、バルクコンテナから小さなドラムや搬送用容器への移送の際に粒子汚染の影響を受ける可能性があります。 汚染管理されたクリーンな NOWPak® (ナウパック) ライナーベース ボトルとキャニスターシステムは、このリスクを軽減し、充填、輸送、および供給を通して貴重な薬液を保護します。
ゲートキーパー自動再生型ガス精製システムは、ガス状汚染物質を ppt (1 兆分の1) レベルまで除去します。 このピューリファイヤーは、供給ガスの純度を管理し、装置に影響を与えることなくプロセスの汚染を防止するための費用対効果の高い方法を提供します。
VaporSorb™ (ベーパーソーブ) ケミカルフィルターは、工場の汚染を制御し、有害な AMC の影響からプロセス装置とウェーハを保護します。ガス状汚染物質の除去と低アウトガスの目的で設計されたこの化学的にクリーンなフィルターが、最新のテクノロジーノードを可能にします。