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ニッケルディスクメンブレン製の Chambergard™FV50D XL (チャンバーガードFV50D XL)ガスディフューザーは、ロードロックおよびトランスファーチャンバー内のパーティクルを低減し、ベント時間を短縮します。
産業
  • 半導体
  • フラットパネルディスプレイ
  • データストレージ
  • LED
プロセス
  • バルクガス供給
  • 成膜
  • ドライエッチング
  • イオン注入
  • フォトリソグラフィ
入口側の接続
  • 6.35 mm (1/4") VCR®互換オスガスケットシール継手
出口側の接続
  • 標準ISOバルクヘッドクランプ互換のISO NW50バルクヘッドマウント
Chambergard™II Max(チャンバーガードII マックス)ガスディフューザーは、大量のスループットと迅速なベントを実現します。
産業
  • 半導体
  • フラットパネルディスプレイ
  • データストレージ
  • LED
プロセス
  • バルクガス供給
  • 成膜
  • ドライエッチング
  • イオン注入
  • フォトリソグラフィ
Chambergard™(チャンバーガード) SF 3XPミニXL ディフューザーは大量のスループットと迅速なベントを実現します。 (この製品は製造中止予定です。)
産業
  • 半導体
  • フラットパネルディスプレイ
  • データストレージ
  • LED
プロセス
  • バルクガス供給
  • 成膜
  • ドライエッチング
  • イオン注入
  • フォトリソグラフィ
Chambergard™ (チャンバーガード) ファスト ベント ディフューザーは、ロードロックおよびトランスファーチャンバー内のパーティクルとベント時間を削減します。パーティクルを巻き上げたりウェーハに付着させることなく、速やかなベントが可能です。
産業
  • 半導体
  • フラットパネルディスプレイ
  • データストレージ
  • LED
プロセス
  • バルクガス供給
  • 成膜
  • ドライエッチング
  • イオン注入
  • フォトリソグラフィ
Chambergard™ BGNファストベントディフューザーは、大量のスループットと迅速なベントを実現します。特許取得済みの焼結ニッケル製フィルターエレメントが流入するガスを高速で拡散させます。
産業
  • 半導体
  • フラットパネルディスプレイ
  • データストレージ
  • LED
プロセス
  • バルクガス供給
  • 成膜
  • ドライエッチング
  • イオン注入
  • フォトリソグラフィ
入口側の接続
  • ガスケットシール
  • 突き合わせ溶着
出口側の接続
  • ISO NWバルクヘッドマウント互換真空フランジ
  • なし(フランジレス)
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