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SDS®3 Safe Delivery Source® (SDS3 セーフ デリバリー ソース)は、特殊ガスを負圧で貯蔵し、負圧供給します。
産業
  • 半導体
プロセス
  • イオン注入
シリンダー容量
  • 2.5 L
  • 7.6 L
ガス
  • AsH3
  • 天然BF3
  • 濃縮BF3
  • PH3
SDS®2 Safe Delivery Source® (SDS2 セーフ デリバリー ソース)は、特殊ガスを負圧で貯蔵し、負圧供給します。
産業
  • 半導体
プロセス
  • イオン注入
シリンダー容量
  • 0.44 L
  • 2.2 L
  • 6.6 L
ガス
  • AsH3
  • 濃縮11BF3
  • 濃縮72GeF4
  • 濃縮プラス72GeF4
  • 天然GeF4
  • PH3
従来の高圧ガス供給に比べ、優れた安全性と性能を実現します。 (この製品は日本では販売しておりません)
産業
  • 半導体
プロセス
  • イオン注入
シリンダー容量
  • 2.2 L
  • 6.6 L
ガス
  • 天然BF3
  • 濃縮BF3
  • 濃縮72GeF4
  • 濃縮プラス72GeF4
負圧でガスを保管、供給します。
産業
  • 半導体
  • フラットパネルディスプレイ
  • 太陽電池
プロセス
  • プラズマ浸漬ドーピング
  • イオン注入
シリンダー容量
  • 17 L
  • 50 L
ガス
  • AsH3
  • PH3
ガスを正圧で供給します。
産業
  • フラットパネルディスプレイ
プロセス
  • プラズマ浸漬ドーピング
  • イオン注入
  • エピタキシー
  • 拡散
シリンダー容量
  • 6.6 L
  • 50 L
ガス
  • 濃縮11BF3
ガスを負圧で供給します。 (この製品は日本では販売しておりません)
産業
  • 半導体
  • フラットパネルディスプレイ
プロセス
  • プラズマ浸漬ドーピング
  • イオン注入
  • エピタキシー
  • 拡散
シリンダー容量
  • 50 L
ガス
  • 天然BF3
  • 濃縮11BF3
安全で効率性に優れた有毒ガス供給技術
産業
  • 半導体
プロセス
  • 成膜
シリンダー容量
  • 16 L
  • 49 L
ガス
  • PH3
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