高純度薬液の供給
ロジックデバイスの線幅の微細化、3D NAND 構造による多層化、DRAM メモリの高密度化に伴い、コンタミネーションとディフェクトに対する感度はデバイス性能に大きく影響します。最適なウェーハの歩留まりと信頼性を達成するためにマイクロエレクトロニクス業界は、薬品の製造からユースポイント至るまで、増加する消耗材料の要件と材料の清浄度についての課題を克服する必要に迫られています。
インテグリスは、汚染を制御した薬液容器、フィルター、ポンプ、流体制御製品によってお客様が清浄度の高い薬液を供給し、製品の歩留まりを向上させ、経済的損失を減らすことをお手伝いすることができます。
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高純度薬液の供給
このホワイトペーパーは薬品製造からデバイス製造まで、全体を通して包括的に清浄度をより向上させる方法について述べています。
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薬品製造およびデバイスの製造の全体を通して清浄な薬品を供給することの重要性をご覧ください。 再生時間:02:35
ピクトグラム
インテグリスは、汚染を制御した薬液容器、フィルター、ポンプ、流体制御製品によってお客様が清浄度の高い薬液を供給し、製品の歩留まりを向上させ、経済的損失を減らすことをお手伝いすることができます。
弊社のソリューションは、パーティクルの脱落や金属イオンの汚染が起こりにくく、薬品メーカーからユースポイントまでの清浄性維持に寄与します。
製品 ソリューション
粒子汚染の低減
粒子の清浄度とコンタミネーションは、コンポーネントによって異なります。インテグリスは、樹脂の選定と継続的な試験の重要性と清浄度の一貫性を維持するためのプロセス管理の方法を理解しています。弊社のようなフッ素樹脂の取り扱いや、潜在的な汚染源の管理方法を理解した実績のあるサプライヤーを選択することが重要です。
技術が進歩するにつれ、重要なプロセスパラメータやアスペクト比の上昇により薬品の汚染に対し、ますます敏感になっています。粒子離脱の抑制、閉塞配管や液溜りの最小化、稼動部品による粒子発生の抑制、先端のメンブレン技術の採用などのインテグリスのコンタミネーションコントロール ソリューションに投資することで汚染を低減できます。
溶出金属による汚染の低減
金属汚染物質が材料から溶出するまでに、数カ月かかることもあります。インテグリスと協働することで、リスクを低減することができます。弊社はコンタミネーションの低減に取り組んでおり、超清浄な PFA 材料の研究や、製品における金属抽出試験の実施、コンタミネーションを低減するためのプロセスの最適化に力を入れています。また、不純物の発生源の特定に投資し、コンタミネーションを防止するための是正措置を講じています。これはコンタミネーションを低減するための重要な最初のステップです。
汚染管理された薬液容器
薬液搬送および保管容器
インテグリスのFluoroPure (フロロピュア) 薬液容器、中間バルクコンテナ、Sentry (セントリー) クイックコネクトシステムは、薬品をバルクやユースポイントに移送、受け入れ、調合する際に、化学的な完全性を維持し、プロセスが汚染されないよう設計されています。
丈夫で効率的なライナーベースシステム
薬品は搬送中やバルク薬品のコンテナから小さなドラムや搬送容器に移す際に、粒子汚染を受ける可能性があります。インテグリスのNOWPak (ナウパック) ライナー ベースのボトルおよびキャニスターシステムは、充填、搬送、およびディスペンスの作業中に貴重な材料を保護することができます。
清浄な流体管理
ウルトラクリーンPFAチューブ
薬液は数キロに及ぶ配管や循環ループを通って移送されるため、溶出した金属によって汚染されやすくなります。全金属抽出と表面のコンタミネーションが極少のFluoroLine (フロロライン) ウルトラクリーンPFA チューブは、貴重な薬品をコンタミネーションから保護します。
先端のメンブレン技術
高度な液体ろ過
メンブレンフィルターの技術は10 nm以下の粒子の除去ができるまでに進化し、総合的な運用効率の改善と最先端のテクノロジーの実現に不可欠なものとなりました。Oktolex™ (オクトレックス) メンブレン技術は、清浄な薬品環境を維持するために特定の汚染物質をターゲットとして、除去効率を最大限に発揮できるようImpact® (インパクト) 8Gのメンブレンフィルターとして導入されました。
Torrento® (トレント) X、Guardian™ (ガーディアン) PS、QuickChange® (クイックチェンジ) NXのフィルターソリューションは、独創的な樹脂設計、さまざまなメンブレン製造技術、高度な洗浄技術により、薬品の用途と要件に基づいて汚染を管理することができます。
効率的な金属コンタミネーションの除去
プロセスの洗浄装置やフォトレジストのディスペンスポンプなどのコンポーネントは、金属汚染の影響を低減することができます。先端ロジックのノードにおいて、ゲルやマイクロブリッジはデバイスの歩留まりを低下させます。インテグリスの Purasol™ (ピュラソル) SP/SN 溶剤用ピューリファイヤーは、フォトレジストのアプリケーションに使用されるさまざまな極性または非極性の超高純度溶剤の溶出金属やコロイド状金属の汚染物質の除去に効果的です。
ソリューションの資料
BrochureThis brochure identifies entire system solutions developed to help you meet increasing purity specifications throughout chemical and device manufacturing.